真空等離子設備具有超大的加工空間，提高加工能力。采用可編程控制器觸摸屏控制系統，精確控制設備運行。設備腔的容量和層數可根據客戶要求定制，以滿足客戶要求。維護成本低，便于客戶成本控制。高精度、快速響應、良好的操作性和兼容性、完善的功能和專業的技術支持。主要應用于生物醫藥行業、印刷電路板行業、半導體集成電路領域、硅膠、塑料、聚合物領域、汽車電子行業、航空行業等。
真空等離子設備利用等離子體中各種高能物質的活化來完全剝離和去除附著在物體表面的污垢。以用氧等離子體去除物體表面的油脂和污垢為例，下面將解釋這些效果。等離子體對油脂污垢的影響類似于油脂污垢的燃燒反應。但不同的是，它在低溫下“燃燒”。的基本原理是，在氧原子自由基、激發的氧分子、電子和氧等離子體中的紫外線的共同作用下，油脂分子最終被氧化成水和二氧化碳分子，并從物體表面去除。
真空等離子設備由可編程控制器觸摸屏控制。加工溫度低，可控制在60以下。低溫可以確保產品表面不會受到過高溫度的影響。等離子清洗過程不會產生任何污染。加工效果非常均勻穩定。它可以處理各種類型和形狀的樣品，具有廣泛的應用，如手機/電腦玻璃蓋的表面清洗、蝕刻和活化、汽車、航空、塑料、印刷和包裝、電子產品、醫療有機體、紡織工業、復合材料、金屬材料和其他機械備件等。
真空等離子設備的加工溫度可低至80和50以下，低加工溫度可保證樣品表面無熱影響。真空等離子設備本身非常環保，不會產生任何污染，處理過程也不會產生任何污染。真空等離子設備清洗的處理效果非常均均勻穩定，經過常規樣品處理后效果長期良好。它廣泛應用于金屬、微電子、聚合物、生物功能材料、低溫殺菌和污染控制等領域。它是企業和科研機構的等離子體表面。
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